Integrated Circuit Development Thre

Integrated Circuit Development
Three factors have contributed to the rapid development growth in the number of circuit elements per chip.
One factor is improvement in techniques for growing large single crystals of pure silicon. By increasing the diameter of the wafers — the discs of silicon on which chips are manufac¬tured — more chips can be made at one time, reducing the unit cost.
Moreover, the quality of the material has also been improved, reducing the number of defects per wafer. This has the effect of increasing the maximum practical size of a chip because it reduces the probability that a defect will be found within a given area. The chip size for large-scale integrated circuits has grown from less than 10.000 square mils (thousandths of an inch) to 70.000.
A second factor is improvement in optical lithography, the process whereby all the patterns that make up a circuit are ultimately transferred to the surface of the silicon. By developing op¬tical systems capable of resolving finer structures, the size of a
typical transistor, as measured by the gate length, has been re¬duced from a few thousandths of an inch in 1965 to two microns today.
Finally refinements in circuit structure that make more efficient use of silicon area have led to a hundredfold increase in the density of transistors on the chip.

Результаты (русский) 1:

Развитие интегральных Три фактора способствовали росту быстрого развития в количество элементов цепи на чип.Одним из факторов является улучшение техники для выращивания крупных монокристаллов чистого кремния. Увеличив диаметр пластин — диски кремния, на которой чипы manufac¬tured — фишки могут быть сделаны в одно время, снижение стоимости единицы. Кроме того качество материала также были улучшены, сократить количество дефектов на пластины. Это имеет эффект увеличения максимальный практический размер чипа, потому что это уменьшает вероятность того, что дефект будет найден в пределах данной области. Размер чипа для больших интегральных выросло с менее чем 10.000 квадратных мил (тысячных дюйма) до 70.000. Вторым фактором является улучшение в оптической литографии, процесс, whereby все узоры, которые составляют цепи в конечном итоге передаются на поверхности кремния. Развивая op¬tical систем, способных решения тонкой структуры, размер Типичный транзистора, как измеряется длина ворот, был re¬duced от нескольких тысячных дюйма в 1965 до двух микрон сегодня. Наконец уточнений в структуре схемы, которые позволяют более эффективно использовать площади кремния привели к сторицей увеличение плотности транзисторов на чипе.

Результаты (русский) 2:

Integrated Circuit развития
Три фактора способствовали быстрому росту развития в ряде схемных элементов на кристалле.
Одним из факторов является улучшение методов выращивания крупных монокристаллов чистого кремния. При увеличении диаметра пластин - диски кремния, на котором чипы manufac¬tured -. Более чипы могут быть сделаны в одно время, сокращение удельных затрат
Кроме того, качество материала также была улучшена, сокращая количество дефекты в пластине. Это имеет эффект увеличения максимальной практической размер кристалла, поскольку это уменьшает вероятность того, что дефект будет найден в данной области. Размер чипа для крупномасштабных интегральных схем выросла с менее чем 10,000 квадратных мил (тысячных дюйма) до 70,000.
Вторым фактором является повышение оптической литографии, процесс, в котором все модели, которые образуют цепь, в конечном счете переданы поверхность кремния. Развивая op¬tical систем, способных решать более тонкие структуры, размер
типичного транзистора, измеренная по длине ворот, был re¬duced от нескольких тысячных дюйма в 1965 году до двух микрон сегодня.
Наконец усовершенствования в конструкции микросхемы которые делают более эффективным использование кремния области привели к увеличению крат плотности транзисторов на кристалле.

Результаты (русский) 3:

интегральные схемы развития
трех факторов способствует элементами цепи быстрого роста числа каждого листа.
одним из факторов является все большее кристалл чистого кремния, совершенствование технологий.диаметр путем увеличения пластин кремния чип производства ¬ производить больше чип может в то же время, снизить себестоимость.
Кроме того, этот материал также улучшилось качество, сократить количество дефектов каждый кусок.это повышает фактические последствия чип максимальный размер дефектов, потому что это сокращение будет данного района обнаружили, что вероятность.больших интегральных микросхем размером менее 10 квадратных миль (от 70 - тысячной дюйма).
Второй фактор является совершенствование процесса оптических литографии, все модели, цепи, в конечном счете, передачи на поверхность кремния.путем развития кооперативов ¬ оптические системы могут решить более сложные структуры,
типичный размеров транзисторов, измерение длины через ворота, уже вновь ¬ от тысячных дюймов 1965 до 2 микрон сегодня.
И наконец, схема оптимизации структуры, более эффективного использования кремния площадью в 100 раз в светодиодных чипов на увеличение плотности транзисторов.