It is uncertain whether the longer

It is uncertain whether the longer exposure times required by the new generation of EUV photolithographic stepper machines would make high-speed manufacturing operations impossible. Even the slightest vibration can undermine the precision of the optics necessary to etch lines of molecular thicknesses, and the semiconductor industry has been forced to build specialized stabilized buildings to try to isolate equipment from vibration.

Результаты (русский) 1:

Неясно ли времени экспозиции требуемые нового поколения EUV фотолитографический шаговых машины сделает невозможным высокоскоростных производственных операций. Даже малейшие вибрации могут подорвать точность оптики, необходимых для etch линии молекулярной толщины, и полупроводниковой промышленности был вынужден строить специализированные стабилизированный зданий, чтобы попытаться изолировать оборудование от вибрации.

Результаты (русский) 2:

Не ясно, являются ли более длительное время экспозиции, требуемые нового поколения EUV фотолитогрфическая шаговых машин сделало бы производство высокоскоростных операций невозможно. Даже малейшее вибрация может подорвать точность оптики, необходимых для травления линий молекулярной толщины, а также полупроводниковой промышленности были вынуждены строить специализированные стабилизированные здания, чтобы попытаться изолировать оборудование от вибрации.

Результаты (русский) 3:

неизвестно, чем дольше время экспозиции, требуется новое поколение EUV фотолитографической степпер машин будет высокоскоростной производственных операций невозможно.даже малейшие колебания могут подорвать точность оптику, необходимые для etch линий молекулярной толщины и полупроводников был вынужден создавать специализированные стабилизировать здания, чтобы попытаться изолировать оборудования от вибрации.